宽温技术

    抗硫化技术 ( anti-sulfuration)

    硫在很多环境中都很常见,而在工业环境下,当DRAM中的银合金接触硫化气体时,就会发生腐蚀反应,并降低导电性并导致产品失效。宜鼎所推出的专业抗硫化技术,通过抗硫化ASTM B809-95的严格测试规范,能有效抵御环境中的硫化影响。


    提供完美保护展现高效性能

    面对日益严峻的工业环境,我们仍坚持提供最高品质的产品,硫化气体所带来的威胁,我们率先为全系列DDR4和DDR5都加入抗硫化技术,为每一件产品提供最佳隔离保护,以领先业界的产品标准,将产品规格全面提升。



    抗硫纳入标准化产品极限再突破

    硫化物对于工业环境是一个潜在威胁,环境中只存在着极少量的硫化气体,它可能造成设备腐蚀。宜鼎抗硫化隔离技术,可以确保DRAM模组完美运行无虞。



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